NF E60-172-5-1998 多工序数控加工中心的试验条件.第5部分:工件夹紧盘定位的精确度和可重复性

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【英文标准名称】:Semiconductordevices-Micro-electromechanicaldevices-Part14:Forminglimitmeasuringmethodofmetallicfilmmaterials(IEC62047-14:2012);GermanversionEN62047-14:2012
【原文标准名称】:半导体装置.微电机装置.第14部分:金属薄膜材料的成型极限测量方法(IEC62047-14-2012).德文版本EN62047-14-2012
【标准号】:DINEN62047-14-2012
【标准状态】:现行
【国别】:德国
【发布日期】:2012-10-01
【实施或试行日期】:
【发布单位】:德国标准化学会(DE-DIN)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:定义;电气工程;形状变化;成型力;成形法;材料特性;材料;金属膜;金属的;微电子学;微系统工艺;性能;半导体器件;系统工程;试验;厚度;薄膜;薄膜工艺
【英文主题词】:Definitions;Electricalengineering;Formchanges;Formingforces;Formingmethod;Materialbehaviour;Materials;Metalfilms;Metallic;Microelectronics;Microsystemtechniques;Properties;Semiconductordevices;Systemengineering;Testing;Thickness;Thinfilms;Thin-filmtechnology
【摘要】:
【中国标准分类号】:L40
【国际标准分类号】:31_080_01;31_220_01
【页数】:20P;A4
【正文语种】:德语

标准名称：	铜及铜合金化学分析方法 第16部分：铬含量的测定
英文名称：	Methods for chemical analysis of copper and copper alloys—Part 15:Determination of cobalt content
中标分类：	冶金 >> 金属化学分析方法 >> 重金属极其合金分析方法
ICS分类：	冶金 >> 有色金属 >> 铜和铜合金
替代情况：	替代GB/T 13293.3-1991部分;GB/T 5121.16-1996
发布部门：	中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期：	2008-06-17
实施日期：	2008-12-01
首发日期：	1996-11-04
作废日期：
主管部门：	中国有色金属工业协会
提出单位：	中国有色金属工业协会
归口单位：	全国有色金属标准化技术委员会
起草单位：	中铝洛阳铜业有限公司、北京矿冶研究总院、中国有色金属工业标准计量质量研究所
起草人：	冯先进、杨素芝、冯渝清、高介平、孙淑媛、张皓、李雅民、刘霞
出版社：	中国标准出版社
出版日期：	2008-12-01
页数：	8页
计划单号：	20061462-T-610

ＧＢ／Ｔ５１２１《铜及铜合金化学分析方法》共有２７部分。本部分为第１６部分。本部分代替ＧＢ／Ｔ５１２１．１６—１９９６《铜及铜合金化学分析方法　铬量的测定》和ＧＢ／Ｔ１３２９３．３—１９９１《高纯阴极铜化学分析方法　塞曼效应电热原子吸收光谱法测定铬、锰、镉量》。本方法规定了铜及铜合金中钴含量的测定方法。本方法适用于铜及铜合金中钴含量的测定。测定范围：0.000 10％～0.0020％。 本部分与ＧＢ／Ｔ１３２９３．３—１９９１、ＧＢ／Ｔ５１２１．１６—１９９６相比，主要变动如下：
———方法二是对ＧＢ／Ｔ５１２１．１６—１９９６的修订，补充了质量保证和控制条款，增加了精密度条款；
———方法一是对ＧＢ／Ｔ１３２９３．３—１９９１的修订，补充了质量保证和控制条款，增加了精密度条款；
———增加了方法三：等同采用国际标准ＩＳＯ６４３７：１９８４《铜合金———铬量的测定———滴定法》。

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